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電子級超純水系統(tǒng)概述
當(dāng)今半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級超純水為四個等級,分別為EW-I級≥18MΩ·cm,全硅≤2ug/L、EW-II級≥15MΩ·cm,全硅≤10ug/L,EW-III級≥12MΩ·cm,全硅≤50ug/L、EW級≥0.5MΩ·cm,全硅≤100ug/L 以區(qū)分不同的電子級超純水水質(zhì)。其中對于超純水關(guān)鍵的指標(biāo)如:電導(dǎo)率(電阻率)、總硅、PH值、顆粒度、微生物等均由不同的要求。因此線路板、電路板使用純水、超純水因為本身工藝流程的不同對超純水制造的工藝也不同。
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線 器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
2、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線 器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
3、預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線 器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)
4、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線 器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線 器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)
電子半導(dǎo)體超純水系統(tǒng)通常直接接入國家自來水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水,通常有多介質(zhì)過濾器,活性炭過濾器,精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng),另有RO反滲透主機系統(tǒng),離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。系統(tǒng)水箱設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵設(shè)有高低壓壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC,及通信遠(yuǎn)程輸送至中控室上位機,實現(xiàn)現(xiàn)場就地和集中控制兩種操作方式,降低了人工的操作復(fù)雜度和維護工作量等,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,或者公司可按照客戶對于水質(zhì)的要求進行特殊定制,既能 用水水質(zhì)達標(biāo),同時降低了所需成本,使該設(shè)備與其他同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
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